Доступен на авторизованном компьютере Национальной библиотеки Эстонии, Архивной библиотеки Эстонского литературного музея, библиотеки Таллиннского технического университета, библиотеки Тартуского университета u Академической библиотеки Таллиннского университета
Доступно в сети Национальной библиотеки Эстонии
Открытый доступ предоставляется
Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films (Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss ; 2011)
Автор: Raul Rammula, Tartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikool. Füüsika instituut, Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss, Научный руководитель: Jaan Aarik, Väino Sammelselg
Смотреть
