Доступен на авторизованном компьютере Национальной библиотеки Эстонии, Архивной библиотеки Эстонского литературного музея, библиотеки Таллиннского технического университета, библиотеки Тартуского университета u Академической библиотеки Таллиннского университета
Доступ ограничен в сети Национальной библиотеки Эстонии
Открытый доступ ограничен
Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings
Автор: Lauri Aarik, Tartu Ülikool. Füüsika instituut, Tartu Ülikool. Materjaliteaduse osakond, Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Eesti-AGA (firma), Научный руководитель: Väino Sammelselg
Смотреть
