Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings
Смотреть Смотреть

Доступен на авторизованном компьютере Национальной библиотеки Эстонии, Архивной библиотеки Эстонского литературного музея, библиотеки Таллиннского технического университета, библиотеки Таллиннского академического университета и библиотеки Тартуского университета

Доступ ограничен в сети Национальной библиотеки Эстонии

Открытый доступ ограничен

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

технические данные

Издатель:
University of Tartu Press
Год издания:
Язык:
aнглийский
Депозитор:
Tartu Ülikooli Kirjastus OÜ
Тип:
книга
Защищены авторским правом
ESTER
b47432159
ISBN
978-9949-776-02-3

Ссылка: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:329135

СМОТРИ ТАКЖЕ