Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films (Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss ; 2011)
Смотреть Смотреть

Доступен на авторизованном компьютере Национальной библиотеки Эстонии, Архивной библиотеки Эстонского литературного музея, библиотеки Таллиннского технического университета, библиотеки Таллиннского академического университета и библиотеки Тартуского университета

Доступно в сети Национальной библиотеки Эстонии

Открытый доступ предоставляется

Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films (Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss ; 2011)

технические данные

Издатель:
Tartu University Press
Год издания:
Язык:
aнглийский
Депозитор:
Archimedes SA
Заметка:
http://hdl.handle.net/10062/18095
Тип:
книга
Защищены авторским правом
ESTER
b27013558
ISBN
978-9949-19-780-4

Ссылка: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:110327

СМОТРИ ТАКЖЕ