Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings
Vaata Vaata

Kättesaadav autoriseeritud töökohal Eesti Rahvusraamatukogus, Eesti Kirjandusmuuseumi Arhiivraamatukogus, Tallinna Tehnikaülikooli Raamatukogus ja Tartu Ülikooli Raamatukogus

Ei ole kättesaadav Eesti Rahvusraamatukogu sisevõrgus

Ei ole kättesaadav välisvõrgus

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

tehnilised andmed

Kirjastaja:
University of Tartu Press
Ilmumisaeg:
Keel:
inglise
Deposiitor:
Tartu Ülikooli Kirjastus OÜ
Laad:
raamat
Autoriõigusega kaitstud
ESTER
b47432159
ISBN
978-9949-776-02-3

Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:329135

Märksõnad

VAATA VEEL