Conduction mechanisms in thin atomic layer deposited films containing TiO2 ; 52 (Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis)
tehnilised andmed
Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:5603
VaataAlla laetud 0 korda
Kättesaadav autoriseeritud töökohal Eesti Rahvusraamatukogus, Eesti Kirjandusmuuseumi Arhiivraamatukogus, Tallinna Tehnikaülikooli Raamatukogus, Tartu Ülikooli Raamatukogus ja Tallinna Ülikooli Akadeemilises Raamatukogus
Kättesaadav Eesti Rahvusraamatukogu sisevõrgus
Kättesaadav välisvõrgus
Püsilink: http://www.digar.ee/id/nlib-digar:5603
